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一種耐高溫低熱膨脹系數(shù)的鋁基/PMOS基復(fù)合層狀材料的制備方法R已注冊(cè)

專利類型：
發(fā)明專利
專利號(hào)：
2017101490938
適用行業(yè)：
物理
有效期至：
2037-06-19

參考價(jià)格：43000.00元

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